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靖江芯片核心部(bu)件制造(zao)打(da)破国际垄(long)断(duan)

信(xin)息来源:靖江 发布日期:2021-04-14 11:09 浏览(lan)次数(shu):

近期,靖江企业先锋(feng)半(ban)导(dao)体(ti)(ti)科技(ji)(ji)(ji)有限公司(si)联合中科院微(wei)电子(zi)研究所(suo),成功研发(fa)“基于5nm芯片工艺刻蚀机核心部件PM模块”产(chan)品(pin),突破了大尺(chi)寸金属构(gou)件超高(gao)精(jing)密(mi)加工、耐腐蚀表面处理(li)、高(gao)温环境均匀性和稳定性控制(zhi)等国(guo)产(chan)PM制(zhi)造的“卡脖子(zi)”技(ji)(ji)(ji)术(shu),项(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)目(mu)技(ji)(ji)(ji)术(shu)指标全面满足(zu)当前全球最先进的12英寸晶圆(yuan)5nm刻蚀工艺。同时,还发(fa)明(ming)了专业检(jian)测方(fang)法,建立了精(jing)细化智能管理(li)及(ji)高(gao)技(ji)(ji)(ji)能人才培养(yang)体(ti)(ti)系。先锋(feng)半(ban)导(dao)体(ti)(ti)这一项(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)目(mu)拥有授(shou)权发(fa)明(ming)专利9项(xiang)(xiang)(xiang)(xiang),实用新型专利8项(xiang)(xiang)(xiang)(xiang),申请发(fa)明(ming)专利7项(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)。

目(mu)前,该产品已在国际(ji)顶(ding)尖(jian)芯片设备(bei)制(zhi)(zhi)造公司——中(zhong)微(wei)半(ban)导体ICP刻蚀(shi)机上作为独家供应商(shang)进行试用(yong),运行结果(guo)达到世界(jie)先进水平。以项目(mu)产品为核心部件的(de)ICP刻蚀(shi)机已在台(tai)积电进行5nm制(zhi)(zhi)程试产成功,后续将(jiang)用(yong)于(yu)台(tai)积电全球首条5nm制(zhi)(zhi)程生(sheng)产线量产。

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